Кукушкин, Сергей Арсеньевич

Серге́й Арсе́ньевич Куку́шкин (род. 9 марта 1954, Ленинград) — российский физик и химик, специалист в области кинетической теории фазовых переходов первого рода, роста тонких пленок и наноструктур, лауреат государственных премий за открытие, объяснение, и внедрение в производство топохимической реакции монооксида углерода (угарного газа) с поверхностью кремния по принципу эндотаксиальной (хемоэпитаксиальной) самосборки замещающих атомов с образованием наноплёнки карбида кремния[1][2], которая может стать основой интегральных микросхем, дополнив или заменив кремний[3][4].

Что важно знать
Кукушкин Сергей Арсеньевич
Дата рождения 9 марта 1954(1954-03-09) (72 года)
Место рождения
Страна
Научная сфера фазовые переходы, тонкие плёнки, гетероструктуры
Место работы ИПМаш РАН, СПбАУ РАН, СПбГУ
Образование Ленинградский технологический институт имени Ленсовета
Учёная степень доктор физико-математических наук (1992)
Учёное звание профессор (1996)
Ученики Андрей Викторович Осипов
Награды и премии
Соросовский профессор (1997)
Стипендия Президента РФ для выдающихся учёных (2000)
Премия РАН им. П.А. Ребиндера (2010)
Премия правительства СПб им. А.Ф. Иоффе (2014)
Заслуженный деятель науки РФ (2016)
Стипендия Министерства промышленности и торговли РФ (2017)
Сайт ipme.ru/ipme/labs/phase/…

Биография

В 1977 году окончил Ленинградский Краснознамённый химико-технологический институт[5].

В 1982 году защитил диссертацию кандидата наук в области физики твёрдого тела[6] в Харьковском политехническом институте на кафедре физики металлов и полупроводников (до 1982 г. — кафедра металлофизики).

В 1991 году защитил докторскую диссертацию[7] в Физико-техническом институте имени А. Ф. Иоффе. В 1996 году ему было присвоено учёное звание профессора по специальности «физика твёрдого тела».

После этого возглавил лабораторию «Структурных и фазовых превращений в конденсированных средах» новосозданного Института проблем машиноведения Российской академии наук.

В 2005 году разработал и запатентовал способ получения плёнки карбида кремния отжигом пористого углерода на поверхности кремния[8].

В 2008 году опубликовал и запатентовал новый способ получения плёнки карбида кремния в реакции кремния с монооксидом углерода.

В 2012 году опубликовал работу, где впервые произведён нитрид-галлиевый светодиод на кремнии с буферным слоем карбида кремния[9].

Работает помимо ИПМаш РАН в СПбАУ РАН, где с 2010 года разработал и преподаёт курс лекций «Фазовые переходы», и в СПбГУ в должности ведущего научного сотрудника[10].

Являлся соучредителем и генеральным директором ООО «Новые кремниевые технологии», получившей грант Сколково. Компания была ликвидирована в 2022 году[11].

Организовал международные конференции по нуклеации: NPT98, NPT2002, MGCTF’19 — последняя из которых была посвящена памяти В. В. Слёзова[12][13] — учителя и соавтора.

По состоянию на 2025 год является автором более 480 научных работ. Индекс Хирша по данным РИНЦ составляет 30[14], по данным Scopus — 29[15]. Автор более 20 патентов[16].

По состоянию на 2025 год входит в состав редакционной коллегии научного издания «Известия Российской академии наук. Механика твёрдого тела»[17].

Семья

Отец — Арсений Иванович Кукушкин (1924—2012) — кандидат геолого-минералогических наук[18], работал во ВСЕГЕИ с 1957 г., ветеран ВОВ — служил в шхерном отряде Кронштадтского МОР КБФ, медаль «За оборону Ленинграда»[19].

Наличие в домашней коллекции отца окаменелости дерева триасового периода[2], в котором органические вещества были полностью замещены неорганическими минералами без нарушения изначальной структуры тканей, впоследствии навело Кукушкина на идею использования подобного принципа замещения атомов в химии твёрдого тела.

Мать — Маргарита Кукушкина (1925—2007) — доктор исторических наук[20], известный археограф-источниковед[21], зав. Отделом рукописной и редкой книги БАН СССР в 1970—1986 гг., отв. ред. факсимильного воспроизведения Радзивиловской летописи.

Научная деятельность

К основным научным разработкам относят получение плёнок карбида кремния.

Карбид кремния имеет прочность, теплопроводность, температуры эксплуатации и ширину запрещённой зоны как минимум в 2 раза выше, чем у кремния[22], что делает его предпочтительной полупроводниковой основой микроэлектроники. Он также обладает радиационной стойкостью, позволяющей применение в космической и ядерной отраслях промышленности[23]. В оптоэлектронике карбид кремния лучше, чем сапфир, подходит для выращивания высококачественных кристаллов нитрида алюминия и нитрида галлия[22], за получение которых японцам была вручена Нобелевская премия по физике 2014.

На основе технологии согласованного замещения атомов, в рамках исследований, поддержанных грантами РНФ, были сделаны новые открытия. В 2021 году было зафиксировано явление электролюминесценции в терагерцовом диапазоне из наноструктур карбида кремния, что открывает перспективы для создания новых источников и детекторов ТГц-излучения. В 2021—2022 годах были опубликованы результаты, указывающие на необычные магнитные и электронные свойства созданных плёнок SiC. При комнатной температуре и выше (вплоть до 130°С) были зафиксированы явления, которые авторы интерпретируют как осцилляции Ааронова — Бома, эффект Мейснера и электронные фазовые переходы в когерентное состояние, которое может являться высокотемпературной сверхпроводимостью.

Ещё одно направление деятельности — получение плёнки SiC в реакции Si c CO[1]. По свидетельству С. А. Кукушкина, открытие реакции далось почти случайно. При формировании плёнки из исходной структуры подложки, ввиду того что межатомное расстояние в SiC на 20 % меньше такового в Si, она начинает сжиматься, а поскольку слой SiC гораздо прочнее Si, то это сжатие приводит не к дефектам в плёнке (как при постепенном наращивании мономолекулярных слоёв стандартной гетероэпитаксией), а к разрыву кремния под плёнкой с образованием пор под ней. Свободно висящая плёнка над пустотами, подобно мосту на сваях, освобождается от деформаций, возникающих из-за несоответствия кристаллических решёток плёнки и подложки, а также наполовину демпфирует деформации, возникающие при остывании композитной пластины из-за разницы в коэффициентах теплового расширения материалов. Таким образом, качественный результат, получаемый искусственно пендеоэпитаксией, при данной хемоэпитаксии возникает естественным образом — система плёнка-подложка при формировании сама пытается избежать пограничного сковывания.

Награды и премии

  • Соросовский профессор (1997)
  • Стипендия Президента РФ для выдающихся учёных (2000)
  • Премия РАН им. П. А. Ребиндера (2010) за цикл работ «Химическая самосборка кристаллической поверхности: новый метод направленной нуклеации эпитаксиальных плёнок»[24]
  • Премия правительства Санкт-Петербурга им. А. Ф. Иоффе (2014) за выдающиеся научные результаты в области науки и техники (номинация по физике и астрономии)[25]
  • Заслуженный деятель науки РФ Указом Президента Российской Федерации от 04.07.2016 № 320 «О награждении государственными наградами Российской Федерации»[26]
  • Стипендия Министерства промышленности и торговли РФ (2017) за вклад в создание новой прорывной технологии и разработку современных образцов вооружения, военной и специальной техники[27]
  • Руководитель многих выигранных в разные годы грантов РФФИ, РНФ, программ фундаментальных исследований Президиума РАН и др.

Избранная библиография

  • С. А. Кукушкин, В. В. Слёзов. Дисперсные системы на поверхности твёрдых тел (эволюционный подход): механизмы образования тонких плёнок. СПб: Наука. 1996. — 304 с.
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. New phase formation on solid surfaces and thin film condensation // Progress in Surface Science 51(1), 1—107 (1996)
  • С. А. Кукушкин, А. В. Осипов. Термодинамика и кинетика фазовых переходов первого рода на поверхности твёрдых тел // Химическая физика 15(9), 5—104 (1996)
  • С. А. Кукушкин, А. В. Осипов. Процессы конденсации тонких плёнок // Успехи физических наук 168(10), 1083—1116 (1998)
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Nucleation kinetics of nano-films. In «Encyclopedia of Nanoscience and Nanotechnology», edited by H.S. Nalwa, USA, V. 8, pp. 113—136, ISBN 1-58883-001 (2004)
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Nucleation and growth kinetics of nanofilms. In «Nucleation theory and applications», edited by J.W.P. Schmelzer, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim, pp. 215—253 (2005)
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov, V.N. Bessolov, B.K. Medvedev, V.K. Nevolin, K.A. Tcarik. Substrates for epitaxy of gallium nitride: new materials and techniques // Review of Advanced Materials Science 16(1), 1—32 (2008)
  • С. А. Кукушкин, А. В. Осипов. Фазовые переходы и зарождение каталитических наноструктур под действием химических, физических и механических факторов // Кинетика и Катализ 49(1), 85—98 (2008)
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Theory of Phase Transformations in the Mechanics of Solids and Its Applications for Description of Fracture, Formation of Nanostructures and Thin Semiconductor Films Growth // Key Engineering Materials 528, 145—164 (2012)
  • С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Н. А. Феоктистов. Химическая самосборка монокристаллической пленки: новый метод направленной нуклеации: от теории до практики // Российский Химический Журнал 57(6), 32—64 (2013)
  • V.N. Bessolov, E.V. Konenkova, S.A. Kukushkin, A.V. Osipov and S.N. Rodin. Semipolar gallium nitride on silicon: Technology and properties // Reviews on Advanced Materials Science 38, 75—93 (2014).
  • С. А. Кукушкин, А. В. Осипов, Н. А. Феоктистов. Синтез эпитаксиальных плёнок карбида кремния методом замещения атомов в кристаллической решётке кремния // ФТТ 56 (8), 1457 (2014)
  • S.A. Kukushkin, A.V. Osipov. Theory and practice of SiC growth on Si and its applications to wide-gap semiconductor films // J. Phys. D: Appl. Phys. 47, 313001 (2014)
  • A.V. Osipov, A.S. Grashchenko, S.A. Kukushkin, et al. Structural and elastoplastic properties of β-Ga2O3 films grown on hybrid SiC/Si substrates // Continuum Mechanics and Thermodynamics 30(5), 1059—1068 (2018)[28]
  • S.A. Kukushkin, S.S. Sharofidinov. A New Method of Growing AlN, GaN, and AlGaN Bulk Crystals Using Hybrid SiC/Si Substrates // Physics of the Solid State, 2342—2347 (2019)[29]
  • V.G. Talalaev, S.A. Kukushkin, A.V. Osipov, et al. Ascending Si diffusion into growing GaN nanowires from the SiC/Si substrate: Up to the solubility limit and beyond // Nanotechnology 31(29), 294003 (2020)[30]
  • А. С. Гращенко, С. А. Кукушкин, Ш. Ш. Шарофидинов. Исследования структурных и механических свойств тонких пленок AlGaN на гибридных подложках нано-SiC/Si // Физика и техника полупроводников, 534—537 (2023)[31]

Примечания